Titanpulver ist ein silbergraues Pulver mit Inhalationsvermögen und ist bei hohen Temperaturen oder elektrischen Funken entflammbar.Das Produkt zeichnet sich durch hohe Reinheit, geringe Partikelgröße und hohe Oberflächenaktivität aus.Wird normalerweise in der Luft- und Raumfahrt, Spritztechnik, Metallurgie und anderen Branchen eingesetzt.
CPTI ---Chemische Zusammensetzung | |||||||||
Größe: | O | N | H | C | Cl | Fe | Si | Mn | Ti |
-60 | 0,18 | 0,025 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,035 | 0,02 | 0,01 | 99,6 |
-80 | 0,2 | 0,025 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,035 | 0,02 | 0,01 | 99,6 |
-100 | 0,22 | 0,025 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,035 | 0,02 | 0,01 | 99,6 |
-200 | 0,25 | 0,025 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,035 | 0,02 | 0,01 | 99,6 |
-325 | 0,32 | 0,025 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,035 | 0,02 | 0,01 | 99,5 |
-400 | 0,35 | 0,025 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,035 | 0,02 | 0,01 | 99,5 |
100-200 | 0,18 | 0,025 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,035 | 0,02 | 0,01 | 99,6 |
200-300 | 0,25 | 0,025 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,035 | 0,02 | 0,01 | 99,6 |
300-400 | 0,3 | 0,025 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,035 | 0,02 | 0,01 | 99,6 |
100-325 | 0,26 | 0,025 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,035 | 0,02 | 0,01 | 99,6 |
200-325 | 0,3 | 0,025 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,035 | 0,02 | 0,01 | 99,6 |
200-400 | 0,3 | 0,025 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,035 | 0,02 | 0,01 | 99,6 |
100-150 | 0,18 | 0,025 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,035 | 0,02 | 0,01 | 99,6 |
150-200 | 0,2 | 0,025 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,035 | 0,02 | 0,01 | 99,6 |
200-250 | 0,25 | 0,025 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,035 | 0,02 | 0,01 | 99,6 |
250-325 | 0,28 | 0,025 | 0,03 | 0,02 | 0,04 | 0,035 | 0,02 | 0,01 | 99,6 |
D50=3μm | 1.8 | 0,035 | 0,04 | 0,03 | 0,04 | 0,04 | 0,02 | 0,01 | 98 |
D50=5μm | 1.6 | 0,035 | 0,04 | 0,03 | 0,04 | 0,04 | 0,02 | 0,01 | 98 |
D50=8μm | 1.5 | 0,035 | 0,04 | 0,03 | 0,04 | 0,04 | 0,02 | 0,01 | 98,3 |
D50=11μm | 1.5 | 0,035 | 0,04 | 0,03 | 0,04 | 0,04 | 0,02 | 0,01 | 98,3 |
D50=20μm | 1.3 | 0,035 | 0,04 | 0,03 | 0,04 | 0,04 | 0,02 | 0,01 | 98,3 |
Das Produkt zeichnet sich durch hohe Reinheit, geringe Partikelgröße und hohe Oberflächenaktivität aus.
1.Pulvermetallurgie
2.Zusätze zur Pulvermetallurgie.
3. Spezifische Anwendungen umfassen Titanfilter,
4.poröse Materialien,
5. Sputtertargets,
6.Diamantwerkzeuge
7.polykristalliner Diamant.
1. niedriger Sauerstoffgehalt
2.Hohe Sphärizität mit ausgezeichneter Fließfähigkeit
3.Weniger Satellitenpulver und Hohlpulver